- 硅片硅棒類
- 氧化氮化金屬膜
- 光刻膠及相關(guān)試劑
- SOI、GOI、SOS
- GaAs，Ge等Ⅲ-Ⅴ族
- 藍寶石、石英、玻璃
- 晶體、納米材料
- 電鏡、實驗室耗材
- 包裝材料、樣品盒
- 設備、備件及維修
- 芯片、器件
- 微納加工服務
| |
|
|
· 研磨硅片 · 拋光硅片 · 紅外透過硅片 · 本征高阻硅片 · 超薄、超厚硅片 · 外延片 · 切割特殊尺寸硅片 · XRD無衍射峰硅片 · 硅棒 · 進口拋光硅片 |
|
| |
|
|
· 氮化硅片 · 氧化硅片 · 金屬鍍膜片 |
|
| |
|
|
· AZ全系列 · SU-8系列 · 日本光刻膠 · DOW光刻膠 · 國產(chǎn)正膠及負膠 · 其它光刻膠 · 道康寧PDMS · 顯影、去膠、腐蝕液等試劑 |
|
| |
|
|
· SOI · GOI · SOS |
|
| |
|
|
· GaAs · Ge · SiC · GaN · InP · GaP · GaSb · 多層膜外延襯底 |
|
| |
|
|
· 藍寶石 · 單晶石英晶體 · 石英玻璃及制品 · 康寧肖特K9玻璃 · ITO、FTO、AZO導電玻 · 陶瓷片 |
|
| |
|
|
· 石墨烯 · 氧化石墨烯、碳納米管 · 納米粉末 · 各種晶體材料 · 納米導電銀漿 · 靶材真空耗材 |
|
| |
|
|
· 電鏡鑷子 · 銅網(wǎng)碳膜 · 導電膠帶 · 云母片 · 樣品臺 · 實驗室耗材 |
|
| |
|
|
· 包裝材料 · 單片盒 · 立式插槽盒（25片卡塞盒） · 圓形晶園盒 · 吸附盒 · 彈性膜盒 · 真空釋放盒 · 托盤盒 · 收納盒 · 清洗花籃 |
|
| |
|
|
· 勻膠機 · 烤膠機 · 滴膠機 · 管式爐 · 光刻機 紫外燈 · 烘箱 · 加熱臺 · 手套箱 · 超聲清洗機 · 離心機 · 蒸發(fā)儀 · 濺射臺 · 切割劃片機 · 真空泵 · 吸盤 |
|
| |
|
|
· 芯片、器件 |
|
| |
|
|
· 掩膜板定制服務 · 激光加工打孔 · Mems加工 傳感器 · 光刻 · 氧化 · 切割 貼膜 · 鍍膜 · 摻雜擴散 · 鍵合外延 · 電鍍技術(shù) · TSV技術(shù) · 封裝工藝 · 濕法腐蝕工藝 · PDMS技術(shù) |
|
銷售客服電話：0512-88981563
Tel/Fax：0512-88981563
業(yè)務手機1：13616276819
QQ: 2219359174
QQ: 549898941
銷售郵箱：szjingxidz@163.com
網(wǎng)址：ok654.cn
地址：江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)匯隆街21號
二、氧化硅片（國產(chǎn)/進口）
1-8英寸直拉CZ、區(qū)熔FZ、單雙面氧化硅片；超薄5nm至超厚10um氧化層均可提供；
專利干氧離子分層氧化均勻性<1%，氧化層致密無漏電，各種特殊厚度要求均可提供；
可提供100nm.285nm、300nm、500nm、1um、2um等不同尺寸進口氧化硅片；
二、氧化硅片參數(shù)信息概要
|
生長方式/Growth |
Thermal oxidation 熱氧化（1、干氧/ 2、干氧+濕氧+干氧） |
|
等級/Grade |
Prime Coating thickness: 5nm to 10000nm±1%超平整氧化厚度均勻性<1%； |
|
直徑/Diameter |
4inch /100mm (1 inch – 8 inch / 25.4mm – 200mm) |
|
厚度/Thickness |
50nm、100nm、200nm、285nm、300nm、500nm、800nm、1um、2um、3um、5um、8um、10um, etc.5nm到10um各種厚度均可定制. |
|
表面狀態(tài)/Finish |
SSPDSP，etc.單拋單面氧化、單拋雙面氧化、雙拋單面氧化、雙拋單面氧化等； |
|
晶向/orientation |
（100）（111）（110）（211）（311）（511）(531)，etc. |
|
晶向偏角/Off cut |
up to 7deg |
|
摻雜類型/Type/Dopant |
P/B,N/Phos，N/Sb，N/As，Intrinsic |
|
電阻率/Resistivity |
CZ/MCZ: From 0.001 to 100 ohm.cm |
|
|
FZ: From 100 to >20000 ohm.cm |
|
薄膜/Thin films |
PVD:Al、Ni、Cu、Ti、Ag、Au、Pt、Fe、Mo，etc. Coating thickness: up to 3000nm±5% |
|
|
LPCVD/PECVD:Oxide、Nitride、TEOS、LTO、SIPOS、SiC、POLY、etc. Coatingthickness: up to 3000nm±3% |
|
|
Thermal oxidation:Oxide Coatingthickness: 5nm to 10000nm±1% |
|
|
Silicon epitaxial wafers and epitaxial services（SOS、GOI、SOI、GaN、GaAs、InP,etc.) |
|
加工服務/Processes |
定制單雙拋單雙面氧化硅片、超薄、超厚、超平氧化硅片、切割不同尺寸、不同形狀，打孔氧化硅片； SSP,DSP,ultrathin，ultra flat，etc. |
|
|
打孔、掏圓、切割、減薄/Punch、Downsizing、dicing、back grinding，etc. |
|
|
微納加工/MEMS；定制各種氧化層厚度，各種條件組合的氧化硅片，超薄氧化，超厚氧化； |