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光刻膠、配套試劑及相關化學品；
厚膠系列光刻膠、配套顯影液、去膠液、稀釋增粘劑、HMDS等各種光刻耗材
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厚 膠 |
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型號 |
光源 |
類型 |
分辨率 |
厚度（um) |
適用范圍 |
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SU-8 GM10xx系列 |
g/h/i-Line |
負性 |
0.1um |
0.1-200 |
具有最大的高寬比，透明度高，垂直度極好。 |
|
SU-8 Microchem |
g/h/i-Line |
負性 |
0.5um |
0.5-650 |
具有最大的高寬比，透明度高，垂直度極好。 |
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SPR220 |
g/h/i-Line |
正性 |
1um |
1—30 |
可用于選擇性電鍍電鍍，深硅刻蝕等工藝。 |
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AZ P4620 |
g/h/i-Line |
正性 |
0.1um |
10-15 |
高對比度，高感光性，高粘附性，適用于半導體和微電鍍。 |
三、光刻膠、配套試劑及相關化學品；
SU-8全系列光刻膠、配套顯影液、去膠液、稀釋增粘劑、HMDS等各種光刻耗材；
產品名稱：美國Microchem SU-8光刻膠
產品內容：
SU- 8光刻膠是一個高對比度，環(huán)氧基光刻膠專為微加工和微電子等的應用需要的厚膠，化學和熱穩(wěn)定的圖像. SU-8 2000是一種改進的配方的SU- 8，SU-8已被廣泛用于通過MEMS制造多年。使用更快的干燥技術，極性更大的溶劑的系統(tǒng)改進了涂層質量，并增加了處理量. SU- 8 2000有12個標準粘度. 膜厚度的0.5到> 200微米可以通過一個單一的涂層過程實現(xiàn)。曝光和隨后的膜熱交聯(lián)的部分不溶于液體顯影劑。 SU- 8光刻膠有優(yōu)秀的成像特性，并能產生非常高的縱橫比結構。 SU- 8光刻膠具有非常高的光傳輸性高于360納米，這使得它非常適合在很厚的薄膜附近的垂直側壁成像。SU-8光刻膠很適合永久性應用中成像，固化并留在設備上.
SU-8 光刻膠 特點：
? 高縱橫比成像
? 0.5至>200μm的膜厚在單一的涂層
? 改進涂料性能
? 快速干燥增加處理量
? 近紫外線（350-400nm）的處理
? 垂直側壁
Microchem SU-8 2025-2075-2150 同等轉速，厚度逐漸提高，可根據(jù)自己實驗需求選擇具體的型號。目前SU-8光刻膠有2000系類和3000系列兩類產品，3000系列升級后對光刻膠的粘附力，產品精度等性能進一步完善。
SU-8光刻膠 品牌：gersteltec
品牌： 瑞士GES公司提供多種不同組成的、基于IBM開發(fā)的環(huán)氧樹脂膠SU-8光刻膠；
應用：GES公司光感環(huán)氧樹脂光刻膠包括先進的功能性SU-8光刻膠滿足并超越世界領先微系統(tǒng)器件廠商的需要，在半導體工業(yè)、微納米技術應用領域具有較強的優(yōu)勢。使用傳統(tǒng)UV光刻技術等對超厚SU-8及功能性SU-8光刻膠進行圖案化，廣泛用于MEMS、MOMES、UV-LIGA、顯示器、柔性顯示器、微流道、生物醫(yī)學、半導體、封裝、太陽能、光子晶體、微燃料電池等領域。
GES公司開發(fā)的SU-8及功能性SU-8光刻膠主要用于需要甩膠厚度大、高深寬比并且垂直側壁形狀的應用；能夠使用幾種不同光刻技術如X射線、紫外及電子束曝光等進行圖案制作。
1、GM1010和GM1020 電子束曝光應用
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瑞士GES SU-8系列光刻膠 |
GM1010 |
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GM1040 |
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GM1050 |
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GM1060 |
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GM1070 |
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GM1075 |